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RO5200 Ta1 Alvo rotativo de tântalo Alvo de tubo de tântalo 100 mm Para CVD PVD
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xDetalhes do produto
| Nome | Alvo rotativo de tântalo | Grau | RO5200,RO5400,RO5252,RO5255,Ta1,Ta2 |
|---|---|---|---|
| Densidade | 160,68 g/cm3 | Peso Atómico | 180.94788 |
| Método de pulverização | DC | Conductividade térmica | 57 W/m.K |
| Destacar | Meta de rotação de Tântalo CVD,Alvo de Tântalo Ta1,Tubos de Tântalo alvo 100 mm |
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Descrição de produto
Informações sobre o produto:
O alvo do tubo de tântalo é um alvo de tântalo tubular, também conhecido como alvo rotativo de tântalo.
| Nome | Alvo de rotação de tântalo Alvo de tubo de tântalo |
| Purificação | ≥ 99,95% |
| Grau | RO5200,RO5400,RO5252,RO5255,Ta1,Ta2 |
| Densidade | 160,68 g/cm3 |
| Peso atómico | 180.94788 |
| Método de pulverização | DC |
| Conductividade térmica | 57 W/m.K |
| Coeficiente de expansão térmica | 6.3 x 10-6 /K |
| Tamanho | OD: 20~300 mm Espessura da parede: ≥ 0,5 mm |
Aplicação do objectivo de rotação Ta:
O objetivo do tubo de tântalo é uma matéria-prima de tântalo de alta pureza para deposição por pulverização, que pode ser utilizada em semicondutores,Display de deposição química de vapor (CVD) e de deposição física de vapor (PVD) e aplicações ópticasOs pormenores são os seguintes:
- Para semicondutores;
- Displays de deposição química de vapor (CVD);
- Displays de deposição física de vapor (PVD);
- Aplicações ópticas.
Nota:Nós fornecemos serviços personalizados. Se você não conseguir encontrar o alvo que deseja, entre em contato conosco diretamente. Podemos personalizar de acordo com suas necessidades.
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