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David

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John Morris

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Alta pureza Sputter Coating Tantalum Target Tantalum Disc Target 99,95% 99,999%

Lugar de origem	China
Marca	PRM
Certificação	ISO9001
Número do modelo	Costumes
Quantidade de ordem mínima	1pc
Preço	Negotiate
Detalhes da embalagem	Caixa de madeira compensada
Tempo de entrega	7~10 dias do trabalho
Termos de pagamento	T/T, L/C
Habilidade da fonte	5000kgs/mês

Contacte-me para amostras grátis e vales.

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Detalhes do produto

Nome	Alvo de revestimento por pulverização de tântalo	Grau	RO5200,RO5400,RO5252,RO5255,Ta1,Ta2
Purificação	99.95% 99,99%	Forma	Disco e placa
Tamanho	Conforme o desenho do cliente	Densidade	16,75g/cm3

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Descrição de produto

Alvo de Tântalo de Alta Pureza de Revestimento de Sputter Alvo de Disco de Tântalo

1Especificações De revestimento de sputter com alvo de tântalo:

Alvo de revestimento de tântalo por pulverização

Material: R05200, R05400, R05252 (Ta-2,5W), R05255 (Ta-10W)

Alvos circulares: dia 25 mm ~ 400 mm x espessura 3 mm ~ 28 mm

Alvos retangulares: espessura 1 mm ~ 12,7 mm x largura < 600 mmx comprimento < 2000 mm

Purificação: >= 99,95% ou 99,99%

Superfície: brilhante, polida

Condição: recozida

Também podemos processar de acordo com o seu pedido.

Grau	3N, 3N5, 4N, com Ta 99,99%min
Recristalização	95%min
Tamanho do grão	ASTM 4 ou superior
Finalização da superfície	16 Rms max. ou Ra 0,4 (RMS 64 ou superior)
Planosidade	0.1 mm ou 0,15% no máximo
Tolerância	+/- 0,010" em todas as dimensões

Alta pureza Sputter Coating Tantalum Target Tantalum Disc Target 99,95% 99,999% 0

2Composição químicaDe revestimento de sputter com alvo de tântalo:

Grau	Conteúdo de elementos%)
Grau	C	N	O	H	Fe	Sim	Não.	Ti	Mo.	W	Nb	- Não.
Ta1	0.01	0.005	0.015	0.0015	0.005	0.005	0.002	0.002	0.01	0.01	0.05	Fica.
Ta2	0.02	0.025	0.03	0.005	0.03	0.02	0.005	0.005	0.03	0.04	0.1	Fica.
TaNb3	0.02	0.025	0.03	0.005	0.03	0.03	0.005	0.005	0.03	0.04	1.5~3.5	Fica.
TaNb20	0.02	0.025	0.03	0.005	0.03	0.03	0.005	0.005	0.02	0.04	17 ~ 23	Fica.
TaNb40	0.01	0.01	0.02	0.0015	0.01	0.005	0.01	0.01	0.02	0.05	35 ~ 42	Fica.
TaW2.5	0.01	0.01	0.015	0.0015	0.01	0.005	0.01	0.01	0.02	2.0~3.5	0.5	Fica.
TaW7.5	0.01	0.01	0.015	0.0015	0.01	0.005	0.01	0.01	0.02	6.5 a 8.5	0.5	Fica.
TaW10	0.01	0.01	0.015	0.0015	0.01	0.005	0.01	0.01	0.02	9.0~11	0.1	Fica.

3AplicaçãoDe revestimento de sputter com alvo de tântalo:

O alvo de pulverização de tântalo é uma folha de tântalo obtida através de processamento sob pressão.É utilizado principalmente em fibras ópticasPara revestimentos de deposição de pulverização, os alvos de tântalo podem ser utilizados para revestimentos de pulverização de cátodos, materiais ativos de alta vazão, etc.,e são materiais importantes para a tecnologia de película fina.

4Vantagem do nosso alvo de Sputter Coating:

- superfície polida de alta qualidade.
- o grão uniforme com microstrutura densificada garante um tempo de utilização mais longo.

- serviço pós-venda profissional.

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